Alexander Bielke studierte Physik an der FAU Erlangen-Nürnberg und beschäftigte sich 2011 am Lehrstuhl für angewandte Optik in seiner Diplomarbeit mit strukturierter Beleuchtung für Topographiemessungen. Bei seiner anschließenden Promotion an der Universität Stuttgart entwickelte er am Institut für Technische Optik ein Verfahren weiter, bei dem spiegelnde Oberflächen durch variabel einstellbare Lohmann-Linsen interferometrisch gemessen werden konnten. Die Arbeit siedelte sich im BMBF-Projekt ETIK (EUV Projektionsoptik für 14nm Auflösung) zusammen mit Zeiss SMT an, in dem die Optiken für die EUV-Lithographie vorangetrieben wurden. Nach seiner Promotion arbeitete er ab 2019 in der Gruppe für Interferometrie bei der Berliner Glas GmbH und beschäftigte sich mit interferometrischen Messplätzen für die Fertigung insbesondere für die Zylinderlinsenherstellung und Ebenheitsmessungen für 12“-Geometrien. 2021 verlagerte sich sein Schwerpunkt, durch die Übernahme von Berliner Glas durch ASML, zurück zu Themen der EUV-Lithographie. Hierfür arbeitet er in der Metrology Gruppe der neu gegründeten ASML Berlin GmbH an einem selbst konzeptionierten, variablen Interferometer, welches den speziellen messtechnischen Herausforderungen bei den in Berlin hergestellten Komponenten für die Lithographieanlagen gerecht wird. Außerdem entwickelt er automatisierte Messplätze für die Fertigung dieser Komponenten. Im Mai 2024 wurde er von der Mitgliederversammlung in den Vorstand der DGaO gewählt.
Du muss angemeldet sein, um einen Kommentar zu veröffentlichen.