Veranstaltungen

3. Optence Messtechnik Symposium

Das 3. Optence Messtechnik Symposium „Terahertz-Technik in der Anwendung“ findet am 10. /11. November 2016 im Fraunhofer-Institut für Physikalische Messtechnik in Kaiserslautern statt.

Der für die Terahertz-Technik genutzte Spektralbereich liegt im elektromagnetischen Spektrum zwischen den Mikrowellen und der Infrarotstrahlung, beginnt bei ca. 100 GHz und endet bei ca. 10 THz. Viele Materialien sind für die entsprechenden Wellenlängen zwischen 30 μm und 3.000 μm transparent. Daher werden Anwendungen für die Terahertz-Technik in so unterschiedlichen Bereichen wie der Spektroskopie, der Werkstoffprüfung, der Sicherheitstechnik, der Kommunikation, der Biologie und der Medizin diskutiert.

Im Symposium wird neben der Vorstellung des technologischen Entwicklungsstandes vor allem ein Schwerpunkt auf die derzeitigen und zukünftigen Anwendungen der Technologie gelegt.

Zielgruppe:

Firmen, welche die Terahertz-Technik in Anwendung bringen, aber auch die Möglichkeiten der Terahertz-Technik kennenlernen wollen. Wissenschaftler auf dem Feld der Terahertz-Forschung, die sich einen Überblick über die Anwendungen verschaffen und Kontakt zu Anwendern knüpfen wollen.

Weitere Informationen zur Veranstaltung und die Möglichkeit zur Anmeldung unter:

http://optence.de/veranstaltungen/veranstaltung/3-optence-messtechnik-symposium-terahertz-technik-in-der-anwendung-247

457. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 457. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium am Dienstag, dem 08. November 2016, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Prof. Dr. Eberhard Manske, TU Ilmenau, Fachgebiet Fertigungs- und Präzisionsmesstechnik, spricht zum Thema

"Nanopositionier- und Nanomessmaschinen - auf den Spuren von Ernst Abbe".

Weitere Informationen: pdf

Bitte beachten Sie den neuen Vortragraum.

Basiswissen Optik I

Am 4. November 2016 findet eine eintägige Veranstaltung zum „Basiswissen Optik I“ statt.

Im Tagesgeschäft Lehrbücher wälzen und sich fundiert in neue oder angrenzende Arbeitsbereiche einarbeiten - das kostet Zeit und manche Frage bleibt vielleicht trotzdem offen. Die CETIP-Weiterbildungsreihe „Basiswissen Optik“ kommt dem häufig  geäußerten Wunsch entgegen, die „Basics“ auch im Bereich der Kunststoff-Optik anzubieten.

Kursinhalte:

Grundlagen und Phänomene: Strahlenoptik, Wellenoptik, Interferenz, Beugung, Polarisation

Bauelemente:  Prismen, Linsen, Asphären

Technische Anwendungen:  Optische Instrumente, Kunststoffoptik

Nähere Informationen zu den Kursinhalten und  Veranstaltungsflyer.
Eine Übersicht über alle Weiterbildungsveranstaltungen finden Sie auf der Cetip Homepage.

Optisches Glas

„Optisches Glas“ am 02.11.2016 in Mainz.

Optisches Glas ist das Schlüsselmaterial, das in optischen Systemen die Abbildung bewirkt und ihre Eigenschaften bestimmt. Mikroskope, Ferngläser, Fotokameras, Projektoren, Mess- und Bilderfassungsobjektive in industriellen Anwendungen sind Beispiele in denen optisches Glas unerlässlich ist.

Der Kurs vermittelt Wissen zu optischem Glas:
– Grundlagen zum Werkstoff Glas
– Optische Glasarten, Anwendungen und Entwicklungstrends
– Spezifikation von Glas für optische Elemente wie Linsen und Prismen gemäß der Normen ISO 12123und ISO 10110
– Herstellung: Schmelze, Feinkühlung und Pressen
– Materialeigenschaften (Definitionen, Toleranzen, Messverfahren):  Brechzahl, Dispersion, Transmission ,Absorption, Homogenität, Schlieren, Spannungsdoppelbrechung
– Anwendungsorientierte Auswahl von angemessenen Qualitätsstufen
– Verfügbarkeit von optischem Glas, Einschränkungen durch technische, wirtschaftliche und regulatorische Gründe

Nähere Informationen zu den Kursinhalten und  Veranstaltungsflyer.
Eine Übersicht über alle CETIP- Weiterbildungsveranstaltungen: Cetip Homepage.

456. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 456. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 11. Oktober 2016, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Prof. Dr. Hartmut Hillmer, Universitaet Kassel, Institut fuer Nanostruktur Technologie und Analytik (INA), spricht zum Thema

"Spektrale Sensoren und Aktuatoren für optische intelligente persoenliche Umgebungen".

Weiteres unter: .pdf

XI International Symposium on Emerging and Industrial TI DLP® Technology Applications

11th International Symposium on Emerging and Industrial TI DLP® Technology Applications will be held on October 6, 2016 Mainz (near Frankfurt), Germany. The DLP Symposium is the established platform that aims to promote the dialogue and discussion between engineers, researchers, users and manufacturers/distributors in the field of innovative advanced light control optical solutions that can serve new markets. The event is jointly organized by OpSys Project Consulting and Texas Instruments.

REGISTRATION IS OPEN NOW !

More information: http://www.dlp-symposium.com/

FINAL CALL FOR PRESENTATIONS

DLP chips and associated development platforms are enabling many exciting new systems and applications beyond traditional display technologies. By bringing together scientists, technologists, and developers, the goal of this conference is to highlight new and interesting means of applying DLP technology to end applications within these emerging markets:

Topics of interest include, but are not limited to:

3D Machine Vision (AOI, PCB quality inspection, robotics vision, factory automation, dental scanning, medical imaging and biometrics)
3D printing (rapid prototyping, direct manufacturing, and tooling & casting)
Spectroscopy (oil & gas analysis, food & drug inspection, water & air quality, and chemical & material identification)
Lithography (printed circuit boards, flat panels, computer-to-plate printing, and laser marking)
DLP Pico™ Video and Data Display (including smartphones & tablets, pico projectors, wearable displays, smart home displays, digital signage, and mobile smart TVs)
Technical aspects on subsystems and components comprised in DLP Systems (including light sources, optics, electronics, new product introductions)

Why submit a paper?
Get a large impact in the advanced light control community: Some 120 attendees and contributors from all over Europe, USA and Asia made the DLP Symposium a huge success in 2015!

Submit your abstract: http://www.dlp-symposium.com/index.php?page_id=74

 

The European Optical Society Bi-Annual Meeting 2016 (EOSAM)

Call for papers. EOSAM 2016, 26-30 September

The European Optical Society Bi-Annual Meeting 2016 (EOSAM)
 
Location: Adlershof con. vent. Exhibition Centre - Rudower Chaussee, 17 - 12489 Berlin, Germany
Duration: 26 September 2016 - 30 September 2016
Submission Deadline: 30 April 2016

TOM 1 - Silicon Photonics and Guided-Wave Optics

TOM 2 - Freeform Optics  

TOM 3 - Optical System Design and Tolerancing

TOM 4 - Diffractive Optics

TOM 5 - Trends in Resonant Nanophotonics

TOM 6 - Frontiers in Optical Metrology

TOM 7 - Organic & Hybrid Semiconductor Materials and Devices

TOM 8 - Adaptive Optics and Advanced Illumination Imaging

EOSAM SPECIAL EVENTS

TUTORIALS ON TOM TOPICS

INDUSTRIAL EXHIBITION
Wednesday, 28 September - Thursday, 29 September
Book your exhibition space today: info@myeos.org

GRAND CHALLENGES OF PHOTONICS SESSION
For the fifth time, a special session of EOSAM is dedicated to the “Grand Challenges of Photonics ". In this session world-class speakers are going to talk about technologies which are revolutionary, uncommon and not realizable to date, but can pave the way for an even brighter future in optics and photonics.

EU PROJECT RESULT DISSEMINATION SESSION
Partners in EU projects are invited to present their results in this special session.

EOS ANNUAL GENERAL ASSEMBLY

FELLOWS CEREMONY

AWARD CEREMONIES

ABSTRACT SUBMISSION

Submit to:  www.conftool.com/eosam2016
Deadline for abstract submission: 30 April 2016
Notification to authors: 15 June 2016

Abstracts can only be submitted online via Conftool: www.conftool.com/eosam2016
Authors are requested to submit an extended abstract of two pages with at least one figure. The abstract must be formatted according to the EOS abstract guidelines, which can be downloaded here.
You might wish to use either the Word or LaTeX template.
Contributions will be accepted for oral and poster presentations (please indicate your preference). At least one author is requested to register for the meeting separately from the abstract submission. The registration includes admission to all Topical Meetings, sessions and additional program.
 

JOURNAL PAPERS IN JEOS:RP

Presenters at an EOS Topical Meeting are kindly invited to consider the submission of a manuscript about their research to the EOS open-access on-line journal JEOS: RP (Journal of the European Optical Society, Rapid Publications, www.jeos.org). A 20% discount will be applied to the author fee. JEOS:RP publishes articles about recent scientific research and technological innovation as well as review papers about a topic in science or innovation from the recent past. A contribution should be original and will be subjected to the journal’s standard anonymous peer review process for scientific quality. The average time-to-publication of the journal is of the order of 75 days.

Further information: .pdf

Europäische Halbleiterlaser Workshop 2016

Dieses Jahr wird der "Europäische Halbleiterlaser Workshop 2016" (European Semiconductor Laser Workshop 2016, ESLW 2016) vom 23-24 September 2016 an der Technischen Universität Darmstadt, in Darmstadt stattfinden.

Der Workshop zielt darauf ab ein informelles Diskussionsforum für aktuellste Entwicklungen im Feld der Halbleiterlaser (Experimente, Simulationen, Anwendungen) sowie der Halbleiterlasertechnologien sowohl aus dem universitären als auch dem industriellen Umfeld innerhalb Europas bereitzustellen.

Die Internetpräsenz finden Sie unter: http://www.eslw2016.tu-darmstadt.de

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