456. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 456. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 11. Oktober 2016, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Prof. Dr. Hartmut Hillmer, Universitaet Kassel, Institut fuer Nanostruktur Technologie und Analytik (INA), spricht zum Thema

"Spektrale Sensoren und Aktuatoren für optische intelligente persoenliche Umgebungen".

Weiteres unter: .pdf

XI International Symposium on Emerging and Industrial TI DLP® Technology Applications

11th International Symposium on Emerging and Industrial TI DLP® Technology Applications will be held on October 6, 2016 Mainz (near Frankfurt), Germany. The DLP Symposium is the established platform that aims to promote the dialogue and discussion between engineers, researchers, users and manufacturers/distributors in the field of innovative advanced light control optical solutions that can serve new markets. The event is jointly organized by OpSys Project Consulting and Texas Instruments.


More information:


DLP chips and associated development platforms are enabling many exciting new systems and applications beyond traditional display technologies. By bringing together scientists, technologists, and developers, the goal of this conference is to highlight new and interesting means of applying DLP technology to end applications within these emerging markets:

Topics of interest include, but are not limited to:

3D Machine Vision (AOI, PCB quality inspection, robotics vision, factory automation, dental scanning, medical imaging and biometrics)
3D printing (rapid prototyping, direct manufacturing, and tooling & casting)
Spectroscopy (oil & gas analysis, food & drug inspection, water & air quality, and chemical & material identification)
Lithography (printed circuit boards, flat panels, computer-to-plate printing, and laser marking)
DLP Pico™ Video and Data Display (including smartphones & tablets, pico projectors, wearable displays, smart home displays, digital signage, and mobile smart TVs)
Technical aspects on subsystems and components comprised in DLP Systems (including light sources, optics, electronics, new product introductions)

Why submit a paper?
Get a large impact in the advanced light control community: Some 120 attendees and contributors from all over Europe, USA and Asia made the DLP Symposium a huge success in 2015!

Submit your abstract:


The European Optical Society Bi-Annual Meeting 2016 (EOSAM)

Call for papers. EOSAM 2016, 26-30 September

The European Optical Society Bi-Annual Meeting 2016 (EOSAM)
Location: Adlershof con. vent. Exhibition Centre - Rudower Chaussee, 17 - 12489 Berlin, Germany
Duration: 26 September 2016 - 30 September 2016
Submission Deadline: 30 April 2016

TOM 1 - Silicon Photonics and Guided-Wave Optics

TOM 2 - Freeform Optics  

TOM 3 - Optical System Design and Tolerancing

TOM 4 - Diffractive Optics

TOM 5 - Trends in Resonant Nanophotonics

TOM 6 - Frontiers in Optical Metrology

TOM 7 - Organic & Hybrid Semiconductor Materials and Devices

TOM 8 - Adaptive Optics and Advanced Illumination Imaging



Wednesday, 28 September - Thursday, 29 September
Book your exhibition space today:

For the fifth time, a special session of EOSAM is dedicated to the “Grand Challenges of Photonics ". In this session world-class speakers are going to talk about technologies which are revolutionary, uncommon and not realizable to date, but can pave the way for an even brighter future in optics and photonics.

Partners in EU projects are invited to present their results in this special session.





Submit to:
Deadline for abstract submission: 30 April 2016
Notification to authors: 15 June 2016

Abstracts can only be submitted online via Conftool:
Authors are requested to submit an extended abstract of two pages with at least one figure. The abstract must be formatted according to the EOS abstract guidelines, which can be downloaded here.
You might wish to use either the Word or LaTeX template.
Contributions will be accepted for oral and poster presentations (please indicate your preference). At least one author is requested to register for the meeting separately from the abstract submission. The registration includes admission to all Topical Meetings, sessions and additional program.


Presenters at an EOS Topical Meeting are kindly invited to consider the submission of a manuscript about their research to the EOS open-access on-line journal JEOS: RP (Journal of the European Optical Society, Rapid Publications, A 20% discount will be applied to the author fee. JEOS:RP publishes articles about recent scientific research and technological innovation as well as review papers about a topic in science or innovation from the recent past. A contribution should be original and will be subjected to the journal’s standard anonymous peer review process for scientific quality. The average time-to-publication of the journal is of the order of 75 days.

Further information: .pdf

Europäische Halbleiterlaser Workshop 2016

Dieses Jahr wird der "Europäische Halbleiterlaser Workshop 2016" (European Semiconductor Laser Workshop 2016, ESLW 2016) vom 23-24 September 2016 an der Technischen Universität Darmstadt, in Darmstadt stattfinden.

Der Workshop zielt darauf ab ein informelles Diskussionsforum für aktuellste Entwicklungen im Feld der Halbleiterlaser (Experimente, Simulationen, Anwendungen) sowie der Halbleiterlasertechnologien sowohl aus dem universitären als auch dem industriellen Umfeld innerhalb Europas bereitzustellen.

Die Internetpräsenz finden Sie unter:

1. Optaver Kolloquium

Am 21. September 2016 findet an der Friedrich-Alexander Universität (FAU) Erlangen-Nürnberg ein Seminar für optische Aufbau- und Verbindungstechnik (1. OPTAVER Kolloquium) statt.

Die DFG-Forschergruppe OPTAVER ist Veranstalter. Es werden die aktuellen Forschungsergebnisse zum Design, der Simulation und der fertigung von gedruckten Wellenleitern auf Polymerbasis sowie zur Herstellung zugehöriger Koppelelemente vorgestellt.

Außerdem sind mehrere Gastredner eingeladen, Ihre aktuellen Ergebnisse aus Forschung und Industrie zu diesem Forschungsgebiet vorzustellen.

Veranstaltungsort: Hörsaalgebäude der naturwissenschaftlichen Fakultät der FAU in Erlangen.

Weitere Informationen: Flyer_OPTAVER_Kollquium.pdf

JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloqium 2016

Auch im 2. Halbjahr 2016 findet dieses Optikkolloqium in Jena mit mehreren interessanten Vorträgen statt.

Die Übersicht für das 2. Halbjahr 2016: Plan_2016.pdf

Den Auftakt mit dem 455. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquim am 20. September übernimmt Prof. Dr. Herbert Gross, Friedrich-Schiller-Universität. Sein Thema "Optische Systeme mit Freiformflächen".


AEON bietet in diesem Herbst wieder die bewährten Schulungen zur Technischen Optik und zum Standard EMVA 1288 zur objektiven Charakterisierung von Kameras und Bildsensoren an.

Referent: Prof. Dr. Bernd Jähne

Montag, 12. September 2016 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Technische Optik für Bildverarbeiter
Weitere Informationen / Anmeldung: Technische Optik für Bildverarbeiter

Dienstag, 13. September 2016 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Bildsensoren (empfohlen als Vorkurs zu den nachfolgenden Schulungen)
Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Vorkurs Bildsensoren

Mittwoch, 14. September 2016 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - GRUNDKURS
Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Grundkurs

Donnerstag, 15. September 2016 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - AUFBAUKURS
Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Aufbaukurs