Interferometrie in Theorie und Praxis

Am 29. und 30. August findet ein Kurs zum Thema Interferometire in Theorie und Praxis in Weiterstadt statt.

In der Fertigung optischer Bauteile werden vorzugsweise interferometrische Mess- und Prüfverfahren wie z. B. Probeglas, Fizeau- sowie Twyman-Green-Interferometer  eingesetzt, um globale (Radienabweichung) und lokale Formabweichung (Unregelmäßigkeit IRR, rotationssymmetrische Unregelmäßigkeit RSI) zu bestimmen.
In dem zweitägigen Seminar werden die Grundlagen der Interferometrie zur Bestimmung der Formabweichung, des Radius und Winkelfehler nach DIN/ISO 10110 vermittelt. Darauf aufbauend wird auf die fortgeschrittenen Themen eingegangen: Referenzierungsverfahren zur Steigerung der Genauigkeit, der interferometrischen Bestimmung von Asphären, mittelfrequente Passfehler und Bestimmung der  Rauigkeit.  Begleitet wird der Theorieteil mit ausführlichen praktischen Übungen.

Der Kurs findet in Kooperation mit der Ametek GmbH BU ZYGO statt.



EOS Optical Technologies Conferences

Submission for EOS Optical Technologies Conferences is open!

EOS will once again hold four conferences in Munich, June 26-29, 2017:

EOS Conference on Manufacturing of Optical Systems

EOS Conference on Optofluidics

EOS Conference on Light Engineering

EOS Conference on Optomechanical Engineering

Location: Munich, Germany,
Duration: 26 June 2017 - 29 June 2017
Submission Timeframe: 17 October 2016 - 29 January 2017



Abstracts should be submitted online via Conftool:
Pre-registration: opens March 2017

EOS Optical Technologies

Advancements in technology and innovative manufacturing processes are crucial for optical sector growth in today's global markets. Markets with high developmental momentum include the energy and semiconductor, life sciences, health care and the agri-food industries. Optical technologies play a crucial role in these markets, the importance of sophisticated but economically priced optical components being vital to new products and applications.

Abstract Submission

Submit to:
Abstract Submission: 17 October - 29 January 2017

Abstracts can only be submitted online via Conftool:

Authors are requested to submit an extended abstract of two pages with at least one figure. The abstract must be formatted according to the EOS abstract guidelines, which can be downloaded here.

You might wish to use either the Word or LaTeX template.

Contributions will be accepted for oral and poster presentations (please indicate your preference). For Manufacturing of Optical Systems, industrial posters are also welcome. At least one author is requested to register for the meeting separately from the abstract submission. The registration includes admission to all Topical Meetings, sessions and additional program.

EOS Conference on Manufacturing of Optical Systems

Manufacturing of Optical Systems will highlight significant technology trends, emerging technologies and associated prospective developments in the field of optics fabrication and testing. This conference provides a forum for all aspects of optics fabrication and testing, ranging from micro to large-scale optics and from high value one-off to mass-produced components including lessons learned papers on special manufacturing issues such as polishing process stability and finishing processes for high-end optics, optics featuring clear apertures below 1 mm or above 100 mm in diameter. One main goal of the meeting is to provide a better link between the design, the manufacturing, and the characterization of optical components and systems. For the first time, there will be a reviewed industrial poster session displayed during the whole conference with companies presenting their key technology competences.
General Chair: Oliver Fähnle, FISBA OPTIK AG (CH)
Co-Chair: Sven Schröder, Fraunhofer IOF (DE)

Topics include

Optics Fabrication, from single piece to High-Volume Fab, from sub-millimeter optics to meter optics and wafer-level optics Testing, Specification, and Characterization of Light Scattering,
Roughness, Shape, Defects, subsurface damage, MTF and mid-spatials
Finishing methods, e.g. SPDT, MRF, IBF, ductile grinding, FJP, laser polishing, CCP and traditional polishing
Optimization techniques in optics fabrication
Fabrication friendly Optical Design and Tolerancing
Lessons learned producing high level aspheres and freeform optics

Industrial poster session

For the first time, there will be a reviewed industrial poster session being organized where companies are entitled to present their key technology competences on a poster that will be presented during the whole time of the conference in the conference session room. Posters presenting competences and know how rather than products will be preferred.

EOS Conference on Optofluidics

Optofluidics emerged approximately 10 years ago aiming at the fusion of integrated optics with microfluidics. Since then, a wealth of new scientific principles and technologies have emerged. Through this conference, the latest developments in Optofluidics will be explored, serving as the main meeting point of the international optofluidics community.
General chair: Demetri Psaltis, École Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) (CH)
Co-chair: Andreas Vasdekis, University of Idaho (US)

Program committee

Xudong Fan, University of Michigan
Pietro Ferraro, Italian National Institute of Optics    
David Sinton, University of Toronto
A. Q. Liu, Nanyang Technological University
Christian Karnutsch, Karlsruhe University of Applied Sciences
Ian White, University of Maryland

Topics include

Photonics: fundamental linear and non-linear optics, lasers, sensors, microscopy, opt. Tweezers
Medicine and Biology: single cell, viral and molecule methods, drug delivery, ultra-high throughput screening
Imaging: time-stretch imaging, Big-Data approaches
Handheld Devices for low-resource settings: mHealth, portable diagnostics
Environment – Energy: optofluidics of plants, photobioreactors, biophysics
Transport: optics, microfluidics, computational methods
Microsystem Fabrication
Novel prototyping methods, 3D and 4D particle generation, BioMEMS
Hybrid Integration: integrated optics (SERS, waveguides), electronics, and applications
Soft Matter: liquid crystals, vesicle photonics
Industry: industrial applications, related technologies and products

EOS Conference on Light Engineering

The focus of this conference will be to explore new developments in the field of light engineering for a variety of applications, including solid state lighting.
General chair: Paul Urbach, Delft University of Technology (NL)
Co-chair: Wilbert Ijzerman, Philips (NL)
Co-chair: Willem Vos, University of Twente (NL)

Topics include

Non-imaging optics
Diffractive optics for SSL
Optical materials
Optical design
New materials
Color quality
Nano-structing of (O)LEDs
Lifetime and stability
Microfluidic lasers

EOS Conference on Optomechanical Engineering

Optomechanical Engineering, the branch of Optical Engineering related to the simulation and construction of complete optical systems, is a key discipline in most fields of optics and photonics. The building of instrumentation which needs to work in real-world environments, from space to underwater or inside the human body, strongly relies in the approaches taken to compensate the effects of hostile environments. Optomechanical Engineering will bring on the most relevant experts and approaches of this evolving field in the land between optics and mechanics. Contributions on simulation methods (mechanical, optical, thermal, etc.) tolerancing for optomechanics, novel assembly methods and materials, design strategies, and use cases are welcome. The aim of the conference is to bring together the vibrant community of optomechanical engineers working in fields as diverse as aerospace and medicine to share methods and experiences and exchange practical knowledge.

General Chair: Santiago Royo, Centre for Sensors, Instruments and Systems Development (CD6), UPC-BarcelonaTech (ES)
Co-chair: Michael Pfeffer, University of Applied Sciences Ravensburg-Weingarten (DE)

Program Committee
Josep Arasa, SnellOptics Ltd. (ES)
James H. Burge, College of Optical Sciences, The University of Arizona (US)
Chris Dainty, University College, London (UK)
Marta C. de la Fuente, INDRA Systems (ES)
Alson E. Hatheway, AEH Inc. (US)
Peter Kühmstedt, Fraunhofer IOF Jena (DE)
Paul R. Yoder, Jr., Consultant (US)
Bob Breault, BRO Inc. (US)

Topics include

Simulation of optomechanical systems
Optomechanical systems in hostile environments
Modelling and mitigation of environemtal effects
Novel methods and geometries for real-world optics
Metrology of optomechanical components
Use cases of optomechanical design
New methods and materials for optomechanical construction

Paper Publication in JEOS:RP

Presenters at EOS Optical Technologies are kindly invited to consider the submission of a manuscript about their research to the EOS open-access on-line journal JEOS: RP (Journal of the European Optical Society, Rapid Publications,

JEOS:RP publishes articles about recent scientific research and technological innovation as well as review papers about a topic in science or innovation from the recent past. A contribution should be original and will be subjected to the journal’s standard anonymous peer review process for scientific quality. The average time-to-publication of the journal is of the order of 75 days.

Fee for EOS Members: 950 EUR

World of Photonics Congress 2017

The EOS Conferences on Optical Technologies will be taking place under the umbrella of the World of Photonics Congress (25-29 June 2017), the leading international congress for optical technologies in Europe and one of the top 3 congresses of its kind worldwide. It is organised by Messe München International and held in conjunction with LASER World of PHOTONICS (26-29 June 2017), the international trade fair for optical technologies including components, systems and applications, so there is an intense exchange between the scientific and industrial sectors.

Venue: ICM - International Congress Centre Munich; Messegelände, 81823 München, DE

The International Congress Centre Munich (ICM) is integrated into the Munich Trade Fair Centre and is one of the most modern congress centres in the world. It can easily be reached by public transport.

The registration for EOS Optical Technologies conferences includes admission to all conferences at the World of Photonics Congress as well as to the LASER World of Photonics trade fair. At least one author of an accepted contribution is required to register in advance to the conference. The pre-registration opens in March 2017.

464. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 464. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 13. Juni 2017, um 15.30  Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG.

Herr Dr. Rainer Schuhmann, Berliner Glas KGaA, Berlin, spricht zum Thema

"Großformatoptiken - nicht fuer die Astronomie".

Weiteres hier: .pdf

DIN ISO verstehen und anwenden

Am 30. und 31. Mai 2017 findet ein Optence-Seminar zum Thema DIN ISO statt.

Die internationale Norm ISO 10110 hat im Wesentlichen die alte DIN 3140 abgelöst. Sie deckt die Anforderungen an die Erstellung von Zeichnungen für optische Elemente und Systeme ab. Die Seminarteilnehmer werden in die Zeichnungsdarstellung der optischen Angaben und Anforderungen eingeführt und erfahren, wie konstruktive und funktionelle Angaben durchzuführen sind. Zugehörige Messnormen und weitere  Aspekte, z. B. betreffend Rohglas und Scratch / Dig werden vorgestellt und diskutiert.

In dem zweitägigen Seminar wird eine Übersicht über die Normenreihe DIN ISO 10110 gegeben, die 16 Normenteile werden vorgestellt und besprochen. Auch werden die  zugehörigen Messnormen und weitere Normen aus dem Umfeld erläutert.

Der Kurs versetzt Sie in die Lage:

  • Zeichnungsangaben nach ISO 10110 zu verstehen und zu interpretieren
  • Die Bedeutung von Zeichnungsangaben beurteilen zu können
  • Zeichnungen selbst normgerecht zu tolerieren
  • Mess- und Prüfmöglichkeiten einzuschätzen
  • Die Voraussetzung für sichere Verhandlungen mit Lieferanten oder Kunden herzustellen


Formmesstechnik in der Optikfertigung

Am 16. und 17. Mai 2017 veranstaltet  Optence ein zweitägies Seminar zum Thema Grundlagen der Optikbeschichtung in Weiterstadt.

Während des Fertigungsprozesses in der Optik ist die wiederholte Überprüfung der Form des Werkstücks unablässige Notwendigkeit. Überprüft werden hier u.a. Form (Power), Welligkeit, Dicke, Zentrierung und Rauheit. Hierfür steht heutzutage eine Vielzahl von Messverfahren zur Verfügung, von denen sich für die unterschiedlichen Prozessschritte (Grobschleifen, Feinschleifen, Polieren) verschiedene Messverfahren besser oder weniger gut eignen.
Außerdem stellen die diversen Geometrien der Optiken (plan, sphärisch, asphärisch) unterschiedliche Anforderungen an die Messtechnik. Die passende Messmethode für die jeweilige Messaufgabe zu finden ist daher häufig eine Herausforderung.

Im Seminar wird im Rahmen von Vorträgen und praktischen Übungen eine Übersicht über die jeweils geeigneten Messverfahren gegeben. Die Teilnehmer können das theoretisch Erarbeitete direkt im Anschluss an den unterschiedlichen Messsystemen anwenden und üben.

Der Kurs versetzt Sie in die Lage: Die richtige Messtechnik für jeden Schritt im Optikfertigungsprozess zu wählen und entsprechend anzuwenden.


463. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 463. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 09. Mai 2017, um 15.30  Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt

Frau Dipl.-Ing. Doris Boebel,  Automotive Lighting Reutlingen GmbH, spricht zum Thema

"Aktuelle Entwicklungen in der Fahrzeuglichttechnik".

Weitere Information: .pdf


Arbeitskreises „Industrie 4.0“

Am 04. Mai 2017 findet ein Treffen des Optence Arbeitskreises „Industrie 4.0“ bei der Sensitec GmbH in Mainz statt.

Der Arbeitskreis findet in Kooperation mit WetzlarNetwork statt.

Termin: 04. Mai 2017
Beginn: 14:00 Uhr, Ende ca. 18:00 Uhr

Veranstaltungsort: Sensitec GmbH, Hechtsheimer Str. 2, 55131 Mainz


  • Begrüßung durch Optence und Sensitec GmbH
  • Vorstellungsrunde
  • Vorträge:
  • Industrie 4.0 in der Fabrik und Industrie 4.0-Produkte

Dr. Rolf Slatter, Sensitec GmbH: Eigene Produkte für die Industrie 4.0 fit machen

Dr. Reinhard Kramer, PRIMES GmbH: Adaptivität als Antwort auf Komplexität – Wie die vernetzte Optikproduktion neue Wertschöpfung ermöglicht

Reik Krappig, Fraunhofer-Institut für Produktionstechnologie: Gemeinsame Themenfindung für das nächste Treffen

Im Anschluss wird es eine Führung durch die Sensitec GmbH in Mainz geben.
Bitte melden Sie sich bei Interesse an einer Teilnahme (kostenlos) vorher an.

Weitere Informationen: .pdf

462. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 462. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 11. April 2017, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Dr. Arnold Nicolaus, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB), Braunschweig, spricht zum Thema

"Kilogramm 2.0: ein Kugelinterferometer ersetzt die Waage".

Weitere Informationen hier: .pdf

Grundlagen der Optikbeschichtung

Am 28. und 29.03 2017 veranstaltet Optence einen Kurs zu Grundlagen der Optikbeschichtung in Alzenau.

Der Kurs beschreibt die kompletten Grundlagen der Optikbeschichtung. An zwei Tagen erhalten Sie einen Überblick über Funktion, Design, Herstellung und Anwendung optischer Schichten. Als Neueinsteiger wird Ihnen die Einarbeitung auf diesem Gebiet erleichtert. Als Auftraggeber für optische Komponenten wird sich Ihr Verständnis für diese Thematik verbessern. Auch wenn Sie Entscheidungen über Kosten-/ Nutzenabwägung bei optischen Beschichtungen treffen müssen, bekommen Sie hier interessante Informationen.

Es gibt die Möglichkeit einer Firmenführung bei Bühler Alzenau GmbH sowie Anlagendemonstrationen.