Veranstaltungen

EMVA Schulungstermine

Im Februar startet wieder das Schulungsprogramm 2017 mit den drei bewährten Schulungen zum Standard EMVA 1288 zur objektiven Charakterisierung von Kameras und Bildsensoren.

Sie erhalten durch den Referenten Prof. Dr. Bernd Jähne, dem Vorsitzenden des Standardisierungskomitees, kompetente Informationen aus erster Hand, aktuell angepasst an das neue Release 3.1, das seit 30. Dezember 2016 die offizielle Version des Standards ist. Daher behandelt der Grundkurs gezielt die Neuerungen von Release 3.1, und die praktischen Demonstrationen im Aufbaukurs verwenden ebenfalls das neue Release. Beide Kurse sind daher die ideale Gelegenheit, die neue Version des Standards 1288 kennenzulernen.

Die Schulungen werden üblicherweise in deutscher Sprache durchgeführt, aber Sie haben die Wahl zwischen deutsch- und englischsprachigen Kursunterlagen (Handouts und digital).

Hier die nächsten Kurstermine:

Mittwoch, 8. Februar 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Bildsensoren (empfohlen als Vorkurs zu den nachfolgenden Schulungen)

Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Vorkurs Bildsensoren

Donnerstag, 9. Februar 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - GRUNDKURS

Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Grundkurs

Freitag, 10. Februar 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - AUFBAUKURS

Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Aufbaukurs

Bei Buchung von zwei oder allen drei EMVA-1288-Schulungen erhalten Sie 15% bzw. 25% Rabatt!

EMVA Industrie-Mitglieder erhalten einen weiteren Rabatt von bis zu 100,00 Euro brutto pro EMVA-1288-Kurs!

459. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 459. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 17. Januar 2017, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG.

Herr Dr. Peter Hartmann, Schott AG, Mainz, spricht zum Thema

"Optische Materialien - Fortschritte eröffnen neue Möglichkeiten in Forschung und Anwendung".

Weitere Informationen: .pdf

Plan der Zeiss-Optikkolloquien im 1. Halbjahr 2017:Plan_2017_0.pdf

458. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 458. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 06. Dezember 2016, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Dr. Christof Fattinger, Roche Innovation Center Basel, Schweiz, spricht zum Thema

"Molographie: Kohaerente Erkennung biomolekularer Wechselwirkungen".

Weitere Infomationen: .pdf

Den Vortragsplan für das erste Halbjahr 2017 finden Sie hier: Plan_2017.pdf

Interferometrie in der Optik-Fertigung: Theorie und Praxis

Am 24. und 25. November 2016 findet das Seminar „Interferometrie in der Optik-Fertigung: Theorie und Praxis“ statt.

Veranstaltungsort: Ametek Germany GmbH, BU ZYGO, Rudolf-Diesel-Str. 16, Weiterstadt
Referent: Dr. Hans Martin Heuck

In der Fertigung optischer Bauteile werden vorzugsweise interferometrische Mess- und Prüfverfahren wie z. B. Probeglas, Fizeau- sowie Twyman-Green-Interferometer eingesetzt, um globale (Radienabweichung) und lokale Formabweichung (Unregelmäßigkeit IRR, rotationssymmetrische Unregelmäßigkeit RSI) zu bestimmen.

In dem zweitägigen Seminar werden die Grundlagen der Interferometrie zur Bestimmung der Formabweichung, des Radius und Winkelfehler nach DIN/ISO 10110 vermittelt. Darauf aufbauend wird auf die fortgeschrittenen Themen eingegangen: Referenzierungsverfahren zur Steigerung der Genauigkeit, der interferometrischen Bestimmung von Asphären, mittelfrequente Passfehler und Bestimmung der Rauigkeit.

Begleitet wird der Theorieteil mit ausführlichen praktischen Übungen.

Zielgruppe

Feinoptiker, Techniker, Ingenieure im Bereich, Entwicklung, Qualitätssicherung, Fertigung

Nähere Informationen zu den Kursinhalten und Veranstaltungsflyer.

Die Veranstaltung findet in Kooperation mit Ametek Germany GmbH, BU ZYGO statt.

10. Laser-Anwenderforum - LAF 2016

BIAS veranstaltet das 10. Laser-Anwenderforum - LAF 2016 vom 23./24.11.2016 in Bremen.

Das LAF ist das Treffen der Laser-Anwender im Bereich Laserstrahlfügen, in diesem Jahr mit dem Schwerpunkttag Additive Fertigung am 24.11.2016. Das Forum wird durch eine Fachausstellung begleitet.

Der Laser ist aus der Fügetechnik nicht mehr wegzudenken. Beim 10. Laser-Anwenderforum erwarten Sie in Bremen interessante Vorträge zu Prozessen, Systemen, Anwendungen und Trends im Bereich Laserstrahlfügen.
Am Schwerpunkttag - Donnerstag - steht 2016 der Fokus auf additiver Fertigung mit Metallen, das sich derzeit erfolgreich in der Industrie etabliert. Am Vormittag öffnet das BIAS Bremen seine Türen und zeigt seine aktuellen Forschungen.
Forum - Fachausstellung - Networking - Open House seit Jahren eine gelungene Mischung, um sich mit Experten auszutauschen, neue Kontakte zu schließen und innovative Ideen mitzunehmen. Seien Sie dabei!

Mehr unter: http://www.bias.de/

Optik-Design mit ZEMAX – Nicht-sequentielle Strahldurchrechnung

Am 15. und 16.11.2016 findet ein Weiterbildungskurs „Optik-Design mit ZEMAX – Nicht-sequentielle Strahldurchrechnung“ in Buchs, Schweiz statt.
Dieser Kurs vertieft spezielle Themen im Umgang mit der Software ZEMAX. Kursinhalt ist die nicht-sequentielle Strahldurchrechnung, die zum Beispiel zur Analyse von Beleuchtungsoptiken und zur Untersuchung von Streulicht verwendet werden kann. Die wichtigen Anwendungsgebiete Streuung, Strahlteilung, Optimierung und Farbrechnung werden besprochen.

Kursinhalte:

Einfache Übungsaufgaben in ZEMAX
Nicht-sequentielle Objekte
Nicht-sequentielle Lichtquellen
Strahlteilung
Streuung
Nicht-sequentielle Optimierung
Breitbandige Lichtquellen, Farbrechnung

Hier finden Sie nähere Informationen zu den Kursinhalten und den Veranstaltungsflyer.

3. Optence Messtechnik Symposium

Das 3. Optence Messtechnik Symposium „Terahertz-Technik in der Anwendung“ findet am 10. /11. November 2016 im Fraunhofer-Institut für Physikalische Messtechnik in Kaiserslautern statt.

Der für die Terahertz-Technik genutzte Spektralbereich liegt im elektromagnetischen Spektrum zwischen den Mikrowellen und der Infrarotstrahlung, beginnt bei ca. 100 GHz und endet bei ca. 10 THz. Viele Materialien sind für die entsprechenden Wellenlängen zwischen 30 μm und 3.000 μm transparent. Daher werden Anwendungen für die Terahertz-Technik in so unterschiedlichen Bereichen wie der Spektroskopie, der Werkstoffprüfung, der Sicherheitstechnik, der Kommunikation, der Biologie und der Medizin diskutiert.

Im Symposium wird neben der Vorstellung des technologischen Entwicklungsstandes vor allem ein Schwerpunkt auf die derzeitigen und zukünftigen Anwendungen der Technologie gelegt.

Zielgruppe:

Firmen, welche die Terahertz-Technik in Anwendung bringen, aber auch die Möglichkeiten der Terahertz-Technik kennenlernen wollen. Wissenschaftler auf dem Feld der Terahertz-Forschung, die sich einen Überblick über die Anwendungen verschaffen und Kontakt zu Anwendern knüpfen wollen.

Weitere Informationen zur Veranstaltung und die Möglichkeit zur Anmeldung unter:

http://optence.de/veranstaltungen/veranstaltung/3-optence-messtechnik-symposium-terahertz-technik-in-der-anwendung-247

457. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 457. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium am Dienstag, dem 08. November 2016, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Prof. Dr. Eberhard Manske, TU Ilmenau, Fachgebiet Fertigungs- und Präzisionsmesstechnik, spricht zum Thema

"Nanopositionier- und Nanomessmaschinen - auf den Spuren von Ernst Abbe".

Weitere Informationen: pdf

Bitte beachten Sie den neuen Vortragraum.

Basiswissen Optik I

Am 4. November 2016 findet eine eintägige Veranstaltung zum „Basiswissen Optik I“ statt.

Im Tagesgeschäft Lehrbücher wälzen und sich fundiert in neue oder angrenzende Arbeitsbereiche einarbeiten - das kostet Zeit und manche Frage bleibt vielleicht trotzdem offen. Die CETIP-Weiterbildungsreihe „Basiswissen Optik“ kommt dem häufig geäußerten Wunsch entgegen, die „Basics“ auch im Bereich der Kunststoff-Optik anzubieten.

Kursinhalte:

Grundlagen und Phänomene: Strahlenoptik, Wellenoptik, Interferenz, Beugung, Polarisation

Bauelemente: Prismen, Linsen, Asphären

Technische Anwendungen: Optische Instrumente, Kunststoffoptik

Nähere Informationen zu den Kursinhalten und Veranstaltungsflyer.
Eine Übersicht über alle Weiterbildungsveranstaltungen finden Sie auf der Cetip Homepage.

Optisches Glas

„Optisches Glas“ am 02.11.2016 in Mainz.

Optisches Glas ist das Schlüsselmaterial, das in optischen Systemen die Abbildung bewirkt und ihre Eigenschaften bestimmt. Mikroskope, Ferngläser, Fotokameras, Projektoren, Mess- und Bilderfassungsobjektive in industriellen Anwendungen sind Beispiele in denen optisches Glas unerlässlich ist.

Der Kurs vermittelt Wissen zu optischem Glas:
– Grundlagen zum Werkstoff Glas
– Optische Glasarten, Anwendungen und Entwicklungstrends
– Spezifikation von Glas für optische Elemente wie Linsen und Prismen gemäß der Normen ISO 12123und ISO 10110
– Herstellung: Schmelze, Feinkühlung und Pressen
– Materialeigenschaften (Definitionen, Toleranzen, Messverfahren): Brechzahl, Dispersion, Transmission ,Absorption, Homogenität, Schlieren, Spannungsdoppelbrechung
– Anwendungsorientierte Auswahl von angemessenen Qualitätsstufen
– Verfügbarkeit von optischem Glas, Einschränkungen durch technische, wirtschaftliche und regulatorische Gründe

Nähere Informationen zu den Kursinhalten und Veranstaltungsflyer.
Eine Übersicht über alle CETIP- Weiterbildungsveranstaltungen: Cetip Homepage.

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