Veranstaltungen

Zentrierprüfung: Grundlagen und Möglichkeiten

In Wetzlar findet am 21. u. 22. November ein Seminar zum Thema "Zentrierprüfung" statt.

Optische Bauteile finden sich in einer Vielzahl von Produkten: von Endoskopen über Mikroskope, Kamera-Objektiven bis hin zur Lithografie- und Astrooptik. Damit die optischen Bauteile ihre Funktion erfüllen, sind enge Toleranzen notwendig, die oft am Rande des technisch Machbaren liegen. Der Zentriermessung kommt dabei eine zentrale Bedeutung zu. Linsen werden oft erst nach Durchlauf der teuersten  Produktionsschritte (Schleifen, Polieren, Vergüten) zentriert. Werden bei diesem Prozess-Toleranzen nicht eingehalten, kann das Bauteil seine Funktion nicht wie vorgesehen erfüllen, auch wenn alle vorhergehenden Arbeitsschritte perfekt ausgeführt wurden. Ähnliches gilt beim Kitten von Achromaten und beim Einsetzen von Einzellinsen oder Linsengruppen in die Fassung. Nur die genaue Kenntnis geeigneter Prüfeinrichtungen und deren sachkundige Anwendung garantiert die Einhaltung und Überwachung der Fertigungstoleranzen.

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Nicht sequentielle Strahldurchrechnung mit ZEMAX

Ein Kurs zur Software ZEMAX findet am 17. und 18. November in Darmstadt statt.

Dieser Kurs vertieft spezielle Themen im Umgang mit der Software ZEMAX. Kursinhalt ist die nicht-sequentielle Strahldurchrechnung, die zum Beispiel zur Analyse von Beleuchtungsoptiken und zur Untersuchung von Streulicht verwendet werden kann. Die wichtigen Anwendungsgebiete Streuung, Strahlteilung, Optimierung und Farbrechnung werden besprochen.

Die Teilnehmer sollten über Grundkenntnisse im Umgang mit ZEMAX verfügen (Eingabe sphärischer axial-symmetrischer Systeme, Optimierung mit Default-Funktion). Die Grundfunktionen von ZEMAX werden zu Beginn des Kurses anhand zweier einfacher Beispiele besprochen.

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Optik-Design mit ZEMAX-Vertiefungen

Der zweitätige Kurs "Optik-Design mit ZEMAX-Vertiefungen" findet am 17. u. 18. Oktober 2017 in Darmstadt statt.

Dieser Kurs vertieft spezielle Themen im Umgang mit der Software ZEMAX. Schwerpunkte sind die Modellierung nicht axialer Systeme, die Toleranzrechnung, die globale Optimierung und die simultane Optimierung mehrerer Konfigurationen.

Im Kurs wird auch eine Einführung in die Makrosprache von ZEMAX gegeben, mit der die Möglichkeiten des Programms noch erweitert werden können. Der Schwerpunkt des Kurses liegt primär auf der Bedienung des Programmes und nicht auf der Vermittlung optischer Zusammenhänge.
Die Teilnehmer sollten über Grundkenntnisse im Umgang mit ZEMAX verfügen (Eingabe sphärischer axial-symmetrischer Systeme, Optimierung mit Default-Funktion). Die Grundfunktionen von ZEMAX werden zu Beginn des Kurses anhand zweier einfacher Beispiele besprochen.
Für die Teilnahme wird ein eigenes Notebook mit vorinstallierter ZEMAX Software und Lizenzkey benötigt. Sollten Sie über keinen eigenen Lizenzkey verfügen, setzen Sie sich bitte mit der Geschäftsstelle in Verbindung.
Der Kurs und das dazugehörige Skript wurden sowohl für das klassische ZEMAX als auch für OpticStudio erstellt, so dass auch Benutzern älterer ZEMAX-Versionen die Kursteilnahme möglich ist.

Weitere Informationen finden Sie hier: .pdf

Einführung in das Optik-Design mit ZEMAX

Am 13. u. 14. September 2017 findet ein zweitägiger Kurs "Einführung in das Optik-Design mit ZEMAX" veranstaltet von Optence e. V. in  Darmstadt statt.

Die in der Schul- und Hochschulausbildung vermittelten Lehrinhalte der Optik reichen häufig nicht aus, um auch nur kleinere Berechnungen aus dem Gebiet der technischen Optik zielgerichtet durchführen zu können.

Der Kurs richtetsich daher an alle Ingenieure, Physiker, Techniker und Naturwissenschaftler, die sich mit der Entwicklung optischer Geräte befassen oder solche bei ihrer Arbeit einsetzen und ihre Kompetenzauf dem Gebiet der Optik ausbauen wollen.

Das Seminar soll die Teilnehmer in die Lage versetzen, optische Systeme zu spezifizieren, ihre Abbildungsleistung zu bewerten und auch eigene Berechnungen zur Auslegung, Dimensionierung bis hin zur Korrektur mit Hilfe des Optik-Design-Programms ZEMAX eigenständig durchführen zu können.

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Innovationen planbar machen

fAm 12. und 13. September veranstaltet Optence e. V. ein Seminar "Innovationen planbar machen" in Darmstadt.

Ein kontinuierlicher Input in Ihre Innovationspipeline durch technologische Vorausschau ist genauso wichtig, wie die systematische Umsetzung der Projekte durch konsequentes Innovationsmanagement.
Aus diesem Grund ist es das Ziel eines etablierten Innovationsmanagement-Prozesses, ein bewertetes Ideenportfolio und ein entsprechend daraus abgeleitetes Projektportfolio zu generieren, welches in festgelegten Abständen aktualisiert wird. Durch die deutlichere Zielausrichtung der R&D Aktivitäten wird der Einsatz sowohl der Personal-, als auch der finanziellen Ressourcen optimiert.
In den praktischen Übungen werden ein oder zwei Markt-/Fokusfelder in den Markt- und Technologie-Trends betrachtet und hier exemplarisch der Ablauf über die eingesetzten Systeme und Komponenten aktiv durchgegangen. Den Teilnehmern des Seminars werden neben der intensiven Auseinandersetzung mit den einzelnen Prozessschritten, insbesondere auch der Ideengenerierung und -priorisierung u.a. Projektmanagement-Tools aufgezeigt und an die Hand gegeben, die es ihnen ermöglichen, einen strukturierten Innovationsmanagement-Prozessentwurf zu erarbeiten.

Weitere Informationen unter: .pdf

Berechnung von Kunststoffoptiken

Am 6. September findet in Lüdenscheid ein Seminar zum Thema Berechnung von Kunststoffoptiken,
veranstaltet von Optence e. V. statt.

Die Bedeutung optischer Systeme nimmt kontinuierlich zu. Aus diesem Grund führt Sie dieses Seminar systematisch von den Grundlagen der Lichttechnik an deren praktische Umsetzung heran. Sie lernen, dieses Wissen für sich anzuwenden und die Wirkungsweise optischer Systeme besser zu verstehen.
So können Sie schon frühzeitig grundlegende Gestaltungsrichtlinien in Ihren Entwicklungen berücksichtigen.
Ergänzend zum theoretischen Teil werden umfangreiche praktische Beispiele gezeigt.

Weitere Informationen finden Sie hier: .pdf

Interferometrie in Theorie und Praxis

Am 29. und 30. August findet ein Kurs zum Thema Interferometire in Theorie und Praxis in Weiterstadt statt.

In der Fertigung optischer Bauteile werden vorzugsweise interferometrische Mess- und Prüfverfahren wie z. B. Probeglas, Fizeau- sowie Twyman-Green-Interferometer  eingesetzt, um globale (Radienabweichung) und lokale Formabweichung (Unregelmäßigkeit IRR, rotationssymmetrische Unregelmäßigkeit RSI) zu bestimmen.
In dem zweitägigen Seminar werden die Grundlagen der Interferometrie zur Bestimmung der Formabweichung, des Radius und Winkelfehler nach DIN/ISO 10110 vermittelt. Darauf aufbauend wird auf die fortgeschrittenen Themen eingegangen: Referenzierungsverfahren zur Steigerung der Genauigkeit, der interferometrischen Bestimmung von Asphären, mittelfrequente Passfehler und Bestimmung der  Rauigkeit.  Begleitet wird der Theorieteil mit ausführlichen praktischen Übungen.

Der Kurs findet in Kooperation mit der Ametek GmbH BU ZYGO statt.

Flyer

 

EOS Optical Technologies Conferences

Submission for EOS Optical Technologies Conferences is open!

EOS will once again hold four conferences in Munich, June 26-29, 2017:

EOS Conference on Manufacturing of Optical Systems

EOS Conference on Optofluidics

EOS Conference on Light Engineering

EOS Conference on Optomechanical Engineering

Location: Munich, Germany,
Duration: 26 June 2017 - 29 June 2017
Submission Timeframe: 17 October 2016 - 29 January 2017

Website: http://www.myeos.org/events/photonics-congress-2017

Email: wpc2017@myeos.org

Abstracts should be submitted online via Conftool: https://www.conftool.com/wpc2017
Pre-registration: opens March 2017

EOS Optical Technologies

Advancements in technology and innovative manufacturing processes are crucial for optical sector growth in today's global markets. Markets with high developmental momentum include the energy and semiconductor, life sciences, health care and the agri-food industries. Optical technologies play a crucial role in these markets, the importance of sophisticated but economically priced optical components being vital to new products and applications.

Abstract Submission

Submit to:  www.conftool.com/wpc2017
Abstract Submission: 17 October - 29 January 2017

Abstracts can only be submitted online via Conftool: www.conftool.com/wpc2017.

Authors are requested to submit an extended abstract of two pages with at least one figure. The abstract must be formatted according to the EOS abstract guidelines, which can be downloaded here.

You might wish to use either the Word or LaTeX template.

Contributions will be accepted for oral and poster presentations (please indicate your preference). For Manufacturing of Optical Systems, industrial posters are also welcome. At least one author is requested to register for the meeting separately from the abstract submission. The registration includes admission to all Topical Meetings, sessions and additional program.

EOS Conference on Manufacturing of Optical Systems

Manufacturing of Optical Systems will highlight significant technology trends, emerging technologies and associated prospective developments in the field of optics fabrication and testing. This conference provides a forum for all aspects of optics fabrication and testing, ranging from micro to large-scale optics and from high value one-off to mass-produced components including lessons learned papers on special manufacturing issues such as polishing process stability and finishing processes for high-end optics, optics featuring clear apertures below 1 mm or above 100 mm in diameter. One main goal of the meeting is to provide a better link between the design, the manufacturing, and the characterization of optical components and systems. For the first time, there will be a reviewed industrial poster session displayed during the whole conference with companies presenting their key technology competences.
General Chair: Oliver Fähnle, FISBA OPTIK AG (CH)
Co-Chair: Sven Schröder, Fraunhofer IOF (DE)

Topics include

Optics Fabrication, from single piece to High-Volume Fab, from sub-millimeter optics to meter optics and wafer-level optics Testing, Specification, and Characterization of Light Scattering,
Roughness, Shape, Defects, subsurface damage, MTF and mid-spatials
Finishing methods, e.g. SPDT, MRF, IBF, ductile grinding, FJP, laser polishing, CCP and traditional polishing
Optimization techniques in optics fabrication
Fabrication friendly Optical Design and Tolerancing
Lessons learned producing high level aspheres and freeform optics

Industrial poster session

For the first time, there will be a reviewed industrial poster session being organized where companies are entitled to present their key technology competences on a poster that will be presented during the whole time of the conference in the conference session room. Posters presenting competences and know how rather than products will be preferred.

EOS Conference on Optofluidics

Optofluidics emerged approximately 10 years ago aiming at the fusion of integrated optics with microfluidics. Since then, a wealth of new scientific principles and technologies have emerged. Through this conference, the latest developments in Optofluidics will be explored, serving as the main meeting point of the international optofluidics community.
General chair: Demetri Psaltis, École Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) (CH)
Co-chair: Andreas Vasdekis, University of Idaho (US)

Program committee

Xudong Fan, University of Michigan
Pietro Ferraro, Italian National Institute of Optics    
David Sinton, University of Toronto
A. Q. Liu, Nanyang Technological University
Christian Karnutsch, Karlsruhe University of Applied Sciences
Ian White, University of Maryland

Topics include

Photonics: fundamental linear and non-linear optics, lasers, sensors, microscopy, opt. Tweezers
Medicine and Biology: single cell, viral and molecule methods, drug delivery, ultra-high throughput screening
Imaging: time-stretch imaging, Big-Data approaches
Handheld Devices for low-resource settings: mHealth, portable diagnostics
Environment – Energy: optofluidics of plants, photobioreactors, biophysics
Transport: optics, microfluidics, computational methods
Microsystem Fabrication
Novel prototyping methods, 3D and 4D particle generation, BioMEMS
Hybrid Integration: integrated optics (SERS, waveguides), electronics, and applications
Soft Matter: liquid crystals, vesicle photonics
Industry: industrial applications, related technologies and products

EOS Conference on Light Engineering

The focus of this conference will be to explore new developments in the field of light engineering for a variety of applications, including solid state lighting.
General chair: Paul Urbach, Delft University of Technology (NL)
Co-chair: Wilbert Ijzerman, Philips (NL)
Co-chair: Willem Vos, University of Twente (NL)

Topics include

LEDS
OLEDS
Phosphors
Non-imaging optics
Nano-optics
Diffractive optics for SSL
Optical materials
Optical design
New materials
Color quality
Nano-structing of (O)LEDs
Lifetime and stability
Microfluidic lasers
Scattering

EOS Conference on Optomechanical Engineering

Optomechanical Engineering, the branch of Optical Engineering related to the simulation and construction of complete optical systems, is a key discipline in most fields of optics and photonics. The building of instrumentation which needs to work in real-world environments, from space to underwater or inside the human body, strongly relies in the approaches taken to compensate the effects of hostile environments. Optomechanical Engineering will bring on the most relevant experts and approaches of this evolving field in the land between optics and mechanics. Contributions on simulation methods (mechanical, optical, thermal, etc.) tolerancing for optomechanics, novel assembly methods and materials, design strategies, and use cases are welcome. The aim of the conference is to bring together the vibrant community of optomechanical engineers working in fields as diverse as aerospace and medicine to share methods and experiences and exchange practical knowledge.

General Chair: Santiago Royo, Centre for Sensors, Instruments and Systems Development (CD6), UPC-BarcelonaTech (ES)
Co-chair: Michael Pfeffer, University of Applied Sciences Ravensburg-Weingarten (DE)

Program Committee
Josep Arasa, SnellOptics Ltd. (ES)
James H. Burge, College of Optical Sciences, The University of Arizona (US)
Chris Dainty, University College, London (UK)
Marta C. de la Fuente, INDRA Systems (ES)
Alson E. Hatheway, AEH Inc. (US)
Peter Kühmstedt, Fraunhofer IOF Jena (DE)
Paul R. Yoder, Jr., Consultant (US)
Bob Breault, BRO Inc. (US)

Topics include

Simulation of optomechanical systems
Optomechanical systems in hostile environments
Modelling and mitigation of environemtal effects
Novel methods and geometries for real-world optics
Metrology of optomechanical components
Use cases of optomechanical design
New methods and materials for optomechanical construction

Paper Publication in JEOS:RP

Presenters at EOS Optical Technologies are kindly invited to consider the submission of a manuscript about their research to the EOS open-access on-line journal JEOS: RP (Journal of the European Optical Society, Rapid Publications, jeos.springeropen.com).

JEOS:RP publishes articles about recent scientific research and technological innovation as well as review papers about a topic in science or innovation from the recent past. A contribution should be original and will be subjected to the journal’s standard anonymous peer review process for scientific quality. The average time-to-publication of the journal is of the order of 75 days.

Fee for EOS Members: 950 EUR

World of Photonics Congress 2017

The EOS Conferences on Optical Technologies will be taking place under the umbrella of the World of Photonics Congress (25-29 June 2017), the leading international congress for optical technologies in Europe and one of the top 3 congresses of its kind worldwide. It is organised by Messe München International and held in conjunction with LASER World of PHOTONICS (26-29 June 2017), the international trade fair for optical technologies including components, systems and applications, so there is an intense exchange between the scientific and industrial sectors.

Venue: ICM - International Congress Centre Munich; Messegelände, 81823 München, DE

The International Congress Centre Munich (ICM) is integrated into the Munich Trade Fair Centre and is one of the most modern congress centres in the world. It can easily be reached by public transport.

Registration
The registration for EOS Optical Technologies conferences includes admission to all conferences at the World of Photonics Congress as well as to the LASER World of Photonics trade fair. At least one author of an accepted contribution is required to register in advance to the conference. The pre-registration opens in March 2017.
http://www.myeos.org/events/photonics-congress-2017

464. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 464. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 13. Juni 2017, um 15.30  Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG.

Herr Dr. Rainer Schuhmann, Berliner Glas KGaA, Berlin, spricht zum Thema

"Großformatoptiken - nicht fuer die Astronomie".

Weiteres hier: .pdf

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