Veranstaltungen

W3+ FAIR 2018

W3+ FAIR 2018 – Zukunftsmesse in Wetzlar verzahnt moderne Präzisionstechnologien

Am 21. und 22. Februar 2018 findet zum 5. Mal diese Netzwerkmesse statt.

Über die W3+ FAIR
Die Veranstaltung geht auf eine Industrieinitiative in Wetzlar und Mittelhessen zurück, die die Vernetzung der drei Branchen Optik, Elektronik und Mechanik vorantreiben will. Durch neue Schnittstellen sollen zukunftsweisende Technologien auf den Weg gebracht werden. Die Messe fand erstmals im Februar 2014 in der Rittal Arena in Wetzlar statt. Ein Highlight des Branchentreffs ist das hochkarätige und in weiten Teilen kostenfreie Rahmenprogramm. Ausgerichtet wird die W3+ FAIR vom Hamburger Messeveranstalter FLEET Events (www.fleet-events.de). Unterstützt wird die Veranstaltung von Namensgeber Wetzlar Network (www.wetzlar-network.de) sowie dem Komptenznetz Optence (www.optence.de).

Weitere Informationen finden Sie hier: www.w3-messe.de

Pressemitteilungen: http://w3-messe.de/de/Presse/Pressemeldungen.html

 

Zentrierprüfung: Grundlagen und Möglichkeiten

In Wetzlar findet am 21. u. 22. November ein Seminar zum Thema "Zentrierprüfung" statt.

Optische Bauteile finden sich in einer Vielzahl von Produkten: von Endoskopen über Mikroskope, Kamera-Objektiven bis hin zur Lithografie- und Astrooptik. Damit die optischen Bauteile ihre Funktion erfüllen, sind enge Toleranzen notwendig, die oft am Rande des technisch Machbaren liegen. Der Zentriermessung kommt dabei eine zentrale Bedeutung zu. Linsen werden oft erst nach Durchlauf der teuersten  Produktionsschritte (Schleifen, Polieren, Vergüten) zentriert. Werden bei diesem Prozess-Toleranzen nicht eingehalten, kann das Bauteil seine Funktion nicht wie vorgesehen erfüllen, auch wenn alle vorhergehenden Arbeitsschritte perfekt ausgeführt wurden. Ähnliches gilt beim Kitten von Achromaten und beim Einsetzen von Einzellinsen oder Linsengruppen in die Fassung. Nur die genaue Kenntnis geeigneter Prüfeinrichtungen und deren sachkundige Anwendung garantiert die Einhaltung und Überwachung der Fertigungstoleranzen.

Weitere Information: .pdf

Nicht sequentielle Strahldurchrechnung mit ZEMAX

Ein Kurs zur Software ZEMAX findet am 17. und 18. November in Darmstadt statt.

Dieser Kurs vertieft spezielle Themen im Umgang mit der Software ZEMAX. Kursinhalt ist die nicht-sequentielle Strahldurchrechnung, die zum Beispiel zur Analyse von Beleuchtungsoptiken und zur Untersuchung von Streulicht verwendet werden kann. Die wichtigen Anwendungsgebiete Streuung, Strahlteilung, Optimierung und Farbrechnung werden besprochen.

Die Teilnehmer sollten über Grundkenntnisse im Umgang mit ZEMAX verfügen (Eingabe sphärischer axial-symmetrischer Systeme, Optimierung mit Default-Funktion). Die Grundfunktionen von ZEMAX werden zu Beginn des Kurses anhand zweier einfacher Beispiele besprochen.

Mehr Informationen: .pdf

XII International Symposium on Emerging and Industrial TI DLP® Technology Applications

The 12th International Symposium on Emerging and Industrial TI DLP® Technology Applications will be held at Congress Park CPH in Hanau (near Frankfurt, Germany) on November 9, 2017.
The DLP Symposium is the established platform that aims to promote the dialogue and discussion between engineers, researchers, users and manufacturers/distributors in the field of innovative advanced light control optical solutions that can serve new markets.
The event is jointly organized by OpSys Project Consulting and the photonics innovation network Optence e.V.

The event is supported by the Gold Sponsor Texas Instruments and the Silver Sponsors In-Vision Digital Imaging GmbH and Visitech Engineering GmbH.

Further information: http://www.dlp-symposium.com/
CALL FOR PRESENTATIONS
DLP chips and associated development platforms are enabling many exciting new systems and applications beyond traditional display technologies. By bringing together scientists, technologists, and developers, the goal of this conference is to highlight new and interesting means of applying DLP technology to end applications within these emerging markets:
 

Topics of interest include, but are not limited to:

http://www.ti.com/corp/graphics/spacer.gif

  3D Machine Vision (AOI, PCB quality inspection, robotics vision, factory automation, dental scanning, medical imaging and biometrics)
  3D printing (rapid prototyping, direct manufacturing, and tooling & casting)
  Spectroscopy (oil & gas analysis, food & drug inspection, water & air quality, and chemical & material identification)
  Lithography (printed circuit boards, flat panels, computer-to-plate printing, and laser marking)
 
  DLP Pico™ Video and Data Display (including smartphones & tablets, pico projectors, wearable displays, smart home displays, digital signage, and mobile smart TVs)
 
  Technical aspects on subsystems and components comprised in DLP Systems (including light sources, optics, electronics, new product introductions)

Why submit a paper?
Get a large impact in the advanced light control community: Some 120 attendees and contributors from all over Europe, USA and Asia made the DLP Symposium a huge success in 2015!

Please submit your contribution prior to August 15, 2017

to OpSys Project Consulting | Alfred Jacobsen | office@opsysconsult.com

 

466. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 466. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 17. Oktober 2017, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG.

Herr Dr. Andreas Hermerschmidt, HOLOEYE Photonics AG, Berlin-Adlershof, spricht zum Thema

"Fluessigkristallbasierte Lichtmodulatoren".

Weiteres hier: .pdf

 

Optik-Design mit ZEMAX-Vertiefungen

Der zweitätige Kurs "Optik-Design mit ZEMAX-Vertiefungen" findet am 17. u. 18. Oktober 2017 in Darmstadt statt.

Dieser Kurs vertieft spezielle Themen im Umgang mit der Software ZEMAX. Schwerpunkte sind die Modellierung nicht axialer Systeme, die Toleranzrechnung, die globale Optimierung und die simultane Optimierung mehrerer Konfigurationen.

Im Kurs wird auch eine Einführung in die Makrosprache von ZEMAX gegeben, mit der die Möglichkeiten des Programms noch erweitert werden können. Der Schwerpunkt des Kurses liegt primär auf der Bedienung des Programmes und nicht auf der Vermittlung optischer Zusammenhänge.
Die Teilnehmer sollten über Grundkenntnisse im Umgang mit ZEMAX verfügen (Eingabe sphärischer axial-symmetrischer Systeme, Optimierung mit Default-Funktion). Die Grundfunktionen von ZEMAX werden zu Beginn des Kurses anhand zweier einfacher Beispiele besprochen.
Für die Teilnahme wird ein eigenes Notebook mit vorinstallierter ZEMAX Software und Lizenzkey benötigt. Sollten Sie über keinen eigenen Lizenzkey verfügen, setzen Sie sich bitte mit der Geschäftsstelle in Verbindung.
Der Kurs und das dazugehörige Skript wurden sowohl für das klassische ZEMAX als auch für OpticStudio erstellt, so dass auch Benutzern älterer ZEMAX-Versionen die Kursteilnahme möglich ist.

Weitere Informationen finden Sie hier: .pdf

465. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 465. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 26. September 2017, um 15.30  Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Dr. Torsten Frosch, Leibniz-Institut fuer Photonische Technologien (IPHT), Jena, spricht zum Thema

"Interdisziplinäre Anwendungen leistungsfähiger Raman-Sensoren".

Weiteres hier:.pdf

EMVA Schulungstermine

Im September findet das bewährte Schulungsprogramm 2017 mit den drei Schulungen zum Standard EMVA 1288 zur objektiven Charakterisierung von Kameras und Bildsensoren so­wie der Schulung zur Technischen Optik statt.

Sie erhalten durch den Referenten Prof. Dr. Bernd Jähne, dem Vorsitzenden des Standardisie­rungskomitees des EMVA 1288, kompetente Informationen aus erster Hand, angepasst an das neue Release 3.1, gültig seit 30. Dezember 2016. Daher behandelt der GRUNDKURS auch ge­zielt die Neuerungen von Release 3.1, und die praktischen Demonstrationen im AUFBAUKURS verwenden ebenfalls das neue Release. Beide Kurse sind daher die ideale Gelegenheit, die neue Version des Standards EMVA 1288 kennenzulernen.

Die Schulungen werden üblicherweise in deutscher Sprache durchgeführt, aber Sie haben die Wahl zwischen deutsch- und englischsprachigen Kursunterlagen (Handouts und digital).

Kurstermine:

Dienstag, 26. September 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr
Technische Optik für Bildverarbeiter

Weitere Informationen / Anmeldung

Mittwoch, 27. September 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr
Bildsensoren (empfohlen als Vorkurs zu den nachfolgenden Schulungen)

Weitere Informationen / Anmeldung

Donnerstag, 28. September 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr
Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - GRUNDKURS

Weitere Informationen / Anmeldung

Freitag, 29. September 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr
Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - AUFBAUKURS

Weitere Informationen / Anmeldung

Bei Buchung von zwei oder allen drei EMVA-1288-Schulungen erhalten Sie 15% bzw. 25% Rabatt!
EMVA Industrie-Mitglieder erhalten einen weiteren Rabatt von bis zu 100,00 Euro brutto pro EMVA-1288-Kurs!

7. Wetzlarer Herbsttagung

Am 26. und 27. September 2017 findet die 7. Wetzlarer Herbsttagung in der Stadthalle Wetzlar statt.

Veranstalter: Optence e. V.

Weitere Informationen: .pdf

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